【開催主旨】終了しました
回折現象を利用したX線イメージングの手法であるX線トポグラフィーは、結晶の欠陥や構造不均質性の評価に用いられてきたが、放射光X線の利用によってその性能や応用範囲は格段に進歩している。研究対象も、金属、半導体からタンパク質にわたる各種結晶における成長や材料・電子デバイスの評価、およびその基礎となる回折現象と、広い分野にまたがっている。本研究会では、昨年度設立されたX線トポグラフィー・ユーザーグループを中心に、関連分野の研究者の最近の成果や実験ステーションの現状についての情報交換を目的としている。また、将来光源として計画が進められているERLについても検討し、さらなるX線トポグラフィーの将来像を展望する。
会期：2011年1月11日（火）〜12日（水）
会場：KEK4号館２階輪講室１，２
提案者： 山口博隆(産総研）
世話人：平野馨一（PF)
Last Update 01/19/2011
