放射光原研究系 本田 融
「PHOTON FACTORY NEWS Vol.22 No.3, November 2004」より |
|
PFの2.5 GeVリングは2005年2月末まで運転を続けた後,約半年間の運転停止期間をもらって直線部増強の改造に入ります。この改造計画の目的は,既存直線部の延長と,BL-1,BL-3,BL-15,BL-17の光源部に短直線部を新設することです。図1に示すように改造範囲はリング全周の半分強にわたります。この範囲にある四極電磁石はすべて更新され,それに伴って偏向電磁石用を含めた真空ダクトもすべて更新されます。四極電磁石はボア径が小さく高い磁場勾配を発生する薄型のものに替わり,その設置場所を偏向電磁石にできるだけ寄せることによって挿入光源用のスペースが新たに生み出されます。外径の大きい新四極電磁石との干渉を避け,また光取り出し角度の変更にも対応するために該当部分の基幹チャンネルはすべて改造が必要となります。その他に入射用セプタム電磁石の増強も必要となります。
|
|
図1. PFリング直線部増強計画の概要
|
|
図2.セプタム電磁石更新作業 |
図3.偏向電磁石部真空ダクトの試作,組立て
|
PFリング直線部増強計画ホームページへ PFリング直線部増強計画その1 PFリング直線部増強計画その2へ
|