加速器科学が拓く革新的イノベーション

～半導体LSI製造プロセス用EUV光源をめざして～


IoT、CPS等のIT技術の活用は今後の社会インフラの鍵であり、その実現には、情報処理デバイスの飛躍的な性能向上、特にデバイスのさらなる微細化が不可欠です。その微細化技術として、レーザープラズマ(LPP)光源を用いたEUV露光技術の開発が長い年月をかけて進められてきましたが、近年、200WクラスのLPP光源を用いた露光技術が実用段階に入ろうとして来ています。一方、今後もデバイスの微細化要求は続くと予想され、現状のLPP光源技術の延長では実現困難な非常に高い光源出力（1kW以上）の実用機の開発が求められています。その様な高い出力の光源として、高エネルギー加速器を利用した自由電子レーザー（FEL）から得られる超高出力光源が近年注目されています。

このワークショップでは、デバイス産業の動向やそれらの現状を基調講演。招待講演にて紹介後、将来のＥＵＶ超高出力光源の有力な候補であるEUV-FEL光源に関し多方面からご講演を頂きます。そしてパネルディスカッションで今後の展望を議論頂くことを企画しております。

多方面の方々に、今後のＥＵＶ超高出力光源の展望を理解して頂くとともに、その実現に向けてご協力を賜れれば幸いです。多くの皆様のご来場をお待ちしております。
主 催:EUV-FEL光源産業化研究会＊と高エネルギー加速器研究機構の共同主催
*企業10社、5大学、3研究機関のメンバーからなる任意団体で、リソグラフィ用FEL光源の実用化をめざし2015年の夏から活動を開始している研究会です。

  • 開催日：12月13日（火）10：00～17：30
  • 会　場：秋葉原UDX 4F「Next-1」
  • 参加費：無料
  • お問い合わせ：高エネルギー加速器研究機構　研究支援戦略推進部　
    大学・産業連携推進室
    TEL：029-879-6239
    url：http://pfwww.kek.jp/PEARL/EUV-FEL_Workshop/index.html
  • チラシダウンロード(PDF:2.5MB)

＊お知らせ：第2回EUV-FEL WORKSHOPが開催されます➡詳細はこちら

What's New

  • 2017年01月13日(木）：　講演資料を公開いたしました。⇒Presentation materialsのページ
  • 2016年12月13日(火）：　各企業、研究所、大学から多くの皆さまにご参加頂き大盛況のうちに終了いたしました。
  • 2016年12月12日(月）：　Webからの申込を締め切りました。当日会場での参加申込も歓迎いたします。
  • 2016年12月09日(金）：　Webからの申込を12/12正午まで延長いたしました
  • 2016年12月01日(木）：　プログラムに座長、パネルディスカッションのテーマ、パネリスト、モデレータを追加しました。開催時間を10:00－17:30に変更しました。
  • 2016年11月25日(金）：　プログラムにErik Hosler氏 (GLOBALFOUNDRIES)の招待講演を追加しました
  • 2016年11月08日(火）：　ホームページを公開しました