-プログラム-
12月13日(火) 10:00-17:30 | |||
時刻 Time | 講演タイトル
Title |
講演者 Speaker (敬称略) | |
09:30 | 受付開始 | ||
10:00-10:10 | 開会挨拶 | 石原 直 (東京大学) Sunao Ishihara (The U. of Tokyo) |
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基調講演・招待講演 10:10-12:00 座長: 石原 直 (東京大学) | |||
10:10-10:50 | -基調講演(Keynote)- 「Big Data時代のCognitive Computingに向けたNeuromorphic Device」 ”Neuromorphic Device for Cognitive Computing in the Big Data era” |
山道 新太郎 (日本アイ・ビー・エム) Shintaro Yamamichi (IBM Japan) |
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10:50-11:25 | -招待講演(Invited)- 「半導体集積回路の微細化とEUVリソグラフィー」 “Scaling of Semiconductor Integrated Circuits and EUV Lithography” |
石内 秀美 (先端ナノプロセス基盤開発センター) Hidemi Ishiuchi (EIDEC) |
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11:25-12:00 | -招待講演(Invited)- "EUV Lithography Industrialization and future outlook" |
宮崎 順二 (エーエスエムエル・ジャパン) Junji Miyazaki (ASML Japan) |
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- 昼食 -【12:00-13:15】 | |||
一般講演 13:15-15:20 座長:木下 博雄 (兵庫県立大), 羽島 良一 (QST) | |||
13:15-13:40 | 「自由電子レーザー"SACLA"とその基礎」 "Free-electron laser SACLA and its basics" |
大竹 雄次 (理化学研究所) Yuji Otake (RIKEN) |
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13:40-14:05 | 「ERLを用いた高出力EUV-FEL光源」 "ERL-Based High-Power EUV-FEL Source" |
中村 典雄 (高エネルギー加速器研究機構) Norio Nakamura (KEK) |
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14:05-14:30 | 「高強度EUV光源用高耐久性EUV多層膜ミラーの開発」 "Development of damageless EUV multilayer mirrors for high intensity EUV sources" |
市丸 智 (NTTアドバンステクノロジ) Satoshi Ichimaru (NTT Advanced Technology) |
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14:30-14:55 | 「半導体量産用250W LPP-EUV光源開発の現状と将来」 "250W LPP-EUV Light Source Development for Semiconductor HVM" |
山崎 卓 (ギガフォトン) Taku Yamazaki (Gigaphoton) |
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14:55-15:20 | 「加速器の応用 - 基礎科学から一般産業へ」 "Applications of Accelerators - from Basic Science to Industrial Use" |
佐藤 潔和 (東芝) Kiyokazu Sato (Toshiba) |
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15:20-15:45 | -招待講演(Invited)- "EUV free-electron laser requirements and considerations for semiconductor manufacturing" |
Erik Hosler (GLOBALFOUNDRIES) |
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- コーヒーブレイク -【15:45-16:15】 | |||
パネルディスカッション 16:15-17:25 | |||
パネルディスカッション「 ~ EUV-FEL光源の実現に向けて ~ 」
Panel Discussion " - To realize EUV-FEL light source- "
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17:25-17:30 | 閉会挨拶 | 神谷 幸秀 (高エネルギー加速器研究機構) Yukihide Kamiya (KEK) |
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17:30 | 閉会 |