第2回EUV-FELワークショップ
加速器科学による産業革新
~さらなる半導体産業の発展にむけて~


 IoT、AI等の活用により、超スマート社会に向けたイノベーションが強く求められています。その社会を支えるインフラとして、情報処理デバイスの飛躍的な性能向上が不可欠です。その実現のために、微細化技術としてレーザープラズマ(LPP)光源を用いたEUV露光技術の開発が長い年月をかけて進められてきました。そして今その量産適用が始まろうとしています。
 今後もデバイスの微細化は続くと予想され、現状のLPP光源技術の延長では実現困難な非常に高い光源出力(1kW以上)の実用化が鍵となります。それに最適な光源として、高エネルギー加速器を利用した自由電子レーザー(FEL)の実現が期待されます。FEL光源自体の開発に加えて、その光源に適応した光学素子・プロセス材料の開発も必要です。
 本ワークショップでは、EUVリソグラフィの動向やEUV-FEL関連技術の動向を招待講演にてご紹介いただくとともに、EUV-FEL光源に関し多方面からご講演を頂くことを企画いたしました。ワークショップを通じて、多くの方々に、今後のEUV超高出力光源の展望を理解して頂くとともに、その実現に向けてご協力を賜れれば幸いです。
 
EUV-FEL光源産業化研究会  代表  石原 直
高エネルギー加速器研究機構 先端加速器推進部 河田 洋
                              
  • 開催日:12月12日(火)10:00~17:00
  • 会 場:東京 御茶ノ水駅徒歩5分 中央大学駿河台記念館、285号室
  • 参加費:無料
  • お問い合わせ
  •   事務局:ワークショップ事務局
    高エネルギー加速器研究機構 研究支援戦略推進部 大学・産業連携推進室
      E-mail:euv-ws(at)ml.post.kek.jp (at)を@にしてください。
      TEL:029-879-6239
      url:http://pfwww.kek.jp/PEARL/EUV-FEL_Workshop2/index.html
      チラシダウンロード(PDF:3.2MB)

  • 主 催:EUV-FEL光源産業化研究会と高エネルギー加速器研究機構の共同主催
    *企業10社、1コンソーシアム、5大学、3研究機関のメンバーからなる任意団体で、リソグラフィ用FEL光源の実用化をめざし
    2015年の夏から活動を開始している研究会です。
  • 尚、本ワークショップはTIA連携プログラム探索事業「かけはし」の一環として企画・開催しております。


*昨年の発表資料はこちらからご覧いただけます➡第1回EUV-FELワークショップホームページ

What's New

  • 2017年12月13日(水):各企業、研究所、大学から多くの皆さまにご参加頂き大盛況のうちに終了いたしました
  • 2017年12月07日(木):おかげさまで多数の申込を頂きました。定員に達しましたので参加申込は締切りました
  • 2017年11月16日(木):プログラムを更新しました
  • 2017年11月10日(金):ホームページを公開しました