第3回EUV-FELワークショップ
加速器科学による産業革新
～さらなる半導体産業の発展にむけて～
超スマート社会に向けたIoT・AI等の利用の拡大・高度化には、情報処理デバイスの飛躍的な性能向上が不可欠です。その実現のために、微細化技術としてレーザープラズマ（LPP）光源を用いたEUV露光技術の開発が長い年月をかけて進められてきました。そして今年の９月にMonterey（米国）で開催された「EUV Lithography 2018」では、EUV露光技術による量産適用の開始が高らかに報告されると同時に、基調講演を含めて多くの講演で「Stochastic Noise」を克服することの重要性も議論されています。今後もデバイスの微細化は続くと予想され、光源出力で考えれば、現状のLPP光源技術の延長では実現困難な非常に高い光源出力（1kW以上）の実用化が、この「Stochastic Noise」を克服する一つの鍵となります。高エネルギー加速器を利用した自由電子レーザー（FEL）光源は、その大強度光源の有力候補です。また、FEL光源自体の開発に加えて、その光源に適応した光学素子・プロセス材料の開発も必要です。
本ワークショップでは、EUVリソグラフィの創始者である木下博雄兵庫県立大学特任教授によるEUVリソグラフィの歴史と将来展望、高エネルギー加速器研究機構の阪井寛志准教授によるコンパクトERLの可能性に関する招待講演を頂き、また、EUVリソグラフィ関連技術の動向のご講演を多方面から頂くことを企画いたしました。
ワークショップを通じて、多くの方々に、今後のEUV超高出力光源の展望を理解して頂くとともに、その実現に向けてご協力を賜れれば幸いです。
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| EUV-FEL光源産業化研究会 代表 石原 直 |
| 高エネルギー加速器研究機構 先端加速器推進部 河田 洋 |
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- 開催日：12月11日（火）13：00～17：00 （開場：12:30）
- 会 場：東京 御茶ノ水駅徒歩5分 中央大学駿河台記念館、285号室
- 参加費：無料
- お問い合わせ
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事務局： 高エネルギー加速器研究機構 EUV-FELworkshop 事務局 |
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E-mail：euv-ws(at)ml.post.kek.jp |
(at)を@にしてください。 |
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url：http://pfwww.kek.jp/PEARL/EUV-FEL_Workshop３/index.html |
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チラシダウンロード(JPEG:975KB) |
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- 主 催:EUV-FEL光源産業化研究会＊と高エネルギー加速器研究機構の共同主催
*企業10社、１コンソーシアム、5大学、3研究機関のメンバーからなる任意団体で、リソグラフィ用FEL光源の実用化をめざし
2015年の夏から活動を開始している研究会です。
- 本ワークショップはKEKの一般寄附金事業「ERL技術をベースにしたイノベーショ
ン展開のEUV-FEL光源実現に向けた調査研究」の資金を基に開催いたします。
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What's New
- 2018年12月26日（水）：発表資料を掲載しました→プログラム＆講演資料のページ
- 2018年12月12日（水）：各企業、研究所、大学から多くの皆さまにご参加頂き大盛況のうちに終了いたしました。ありがとうございました。
- 2018年11月 2日(金）：申込を開始しました。→申込ページ
- 2018年11月2日（金）：ホームページを公開しました
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